很多人有一个误区，以为新莱应材只能应于Euv光刻机，实际上在半导体及其它的很多高
$新莱应材(SZ300260)$ 很多人有一个误区，以为新莱应材只能应于Euv光刻机，实际上在半导体及其它的很多高精设备领域用途广泛，这次被关注是因为新凯莱可能的光刻机，实际上新凯莱其它的很多设备都是需要新莱应材的材料设备与技术，从订单量大量增就可以确认这一点了！光刻机是不是今天发布只是影响市场情绪，不会影响中国光刻机发展的脚步，更不会影响新莱应材与新凯莱的深度合作关系。
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