合作逻辑：至纯科技是新凯来湿法清洗设备的独家核心供应商，提供单片清洗机等关键设备，适配新凯来先进制程（如7nm/5nm）需求。双方在SAQP（自对准四重成像）工艺的清洗环节形成协同，至纯科技的湿法工艺机台已与新凯来设备联合开发，加速验证落地。

竞争优势：至纯科技是国内唯一实现28nm以下清洗设备量产的厂商，技术达到国际先进水平，与新凯来的合作强化了其在半导体清洗领域的龙头地位。

业绩驱动：2025年，至纯科技来自新凯来的订单超26亿元，在手订单充足，业绩增长确定性高。

合作逻辑：新莱应材是新凯来刻蚀、薄膜沉积设备的超高纯净管路与真空阀门核心供应商，其产品（如高洁净真空/气体管路系统）是新凯来设备的“血管”，直接影响设备的性能与可靠性。

竞争优势：新莱应材是国内半导体设备零部件“卡脖子”环节的稀缺标的，产品达国际最高标准（如SEMI标准），同时服务应用材料、东京电子等国际巨头，技术与产能优势显著。

业绩驱动：2025年，新莱应材斩获新凯来数亿级订单，随着新凯来设备量产，其零部件需求将持续增长。

合作逻辑：奥普光电通过控股股东长春光机所与新凯来合资成立长光集智，专注光刻机核心部件（如曝光系统）研发。奥普光电向长光集智供应纳米级物镜等关键组件，间接参与新凯来光刻机的制造。

竞争优势：奥普光电掌握纳米级物镜技术，是光刻机国产突破的核心标的，技术壁垒极高（纳米级精度要求）。

业绩驱动：随着新凯来光刻机的量产，长光集智的订单将逐步释放，奥普光电的间接业务将迎来增长。

政策与技术驱动：半导体设备国产化是国家战略，新凯来作为深圳国资委控股的“国家队”，承载着突破光刻机、湿法清洗等“卡脖子”技术的使命，其发展具备强政策支持。

供应链绑定深度：至纯科技、新莱应材、奥普光电均与新凯来形成技术与订单的双绑定，受益于新凯来设备量产的直接拉动。

业绩确定性：三者均有明确的订单支撑（如至纯科技26亿元订单、新莱应材数亿级订单），业绩增长确定性高。

技术验证不及预期：半导体设备研发周期长，若新凯来设备技术验证进度慢于预期，可能影响供应商订单交付。

国际制裁风险：半导体设备依赖部分进口零部件，若国际制裁加剧，可能影响供应链稳定性。

市场竞争风险：随着国内半导体设备企业增多，竞争可能加剧，影响公司市场份额。