去年下半年上海微电子DUV光刻机和新凯来浸润光刻机分别在中芯国际、长江存储和HW全国产线验证，预计上半年就有结果。当然全国产线用国产材料，上海新阳五个系列高端芯片材料中电镀液、清洗液、蚀刻液百分百参与验证，光刻胶已经验证7纳米工艺，全国产线验证上海新阳光刻胶概率大，CMP研磨液是否参与就不知道了。上半年这些全国产线验证结果会出来，相信良率符合全国产线要求。

另外一个期待是上海新阳合肥一期1.7万吨扩产到4.35万吨新产能，去年十月份披露利用一期厂房和设施开始建设，大概买设备、安装和调试三个季度到上半年应该能开始试产。

见证了过去四年，接下来两年应该三个基地10倍24年产量的20万吨总产能全部陆续建成投产，新产能、新产品爆发时间站在多方，空头百分百都是炮灰！