昨日尾盘半导体异动原来是因为上微电子EUV传来消息。23年初上海新阳浸润ArF光
昨日尾盘半导体异动原来是因为上微电子EUV传来消息。
23年初上海新阳浸润ArF光刻胶干到7nm，24年已经获取订单，EUV光刻胶申请几个发明专利。
最近中芯测试国产浸润光刻机和AI芯片发布把国产替代进入新时代，上海新阳五个系列关键高端芯片材料迎来历史机遇。
2025-09-24 05:34:28 作者更新以下内容
2025-09-24 05:38:43 作者更新以下内容
2025-09-24 05:50:18 作者更新以下内容
昨天尾盘拉红长阳的全部是国产替代材料、设备，设计原厂、晶圆、封测都不是主角
2025-09-24 05:56:57 作者更新以下内容
上海新阳光刻胶是不是被评估，上海新阳光刻胶不行的话还有谁?
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