底层生产逻辑EUV
1. 光源(最难)
- ASML用LPP激光等离子体:200kW级激光轰击液态锡,产生13.5nm光,全球独一份。
- 中国:原型机光源功率、稳定性、寿命远不达标,还在实验室阶段。
2. 光学系统(极精密)
- EUV是全反射式,需要10+层钼/硅多层膜反射镜,表面平整度要求原子级(差0.1nm就废)。
- 中国:反射镜精度、镀膜、污染控制全是瓶颈。
3. 整机系统+产业链
- EUV是超复杂系统工程:真空、温控、双工件台、检测、软件、材料(EUV光刻胶几乎全进口) 。
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