在近期举行的IEEE国际电子器件会议（IEDM 2025）上，全球领先的半导体研发机构imec首次展示了利用极紫外（EUV）光刻技术在300mm晶圆上制备固态纳米孔的成果。这一突破为实现固态纳米孔的低成本、大规模生产迈出了关键一步。

技术突破：实现10纳米精度均匀制备

研究团队成功在整片300mm晶圆上制备出直径小至10纳米的高度均匀纳米孔。通过将EUV光刻技术与基于间隔层的刻蚀技术相结合，实现了纳米级精度和可重复性，解决了固态纳米孔制造中长期存在的技术难题。

技术优势：兼具生物兼容与半导体工艺兼容性

与传统生物纳米孔相比，固态纳米孔具有更好的稳定性和可调控性，且完全兼容标准半导体制造工艺。通过DNA片段易位实验验证，该纳米孔展现出高信噪比和优异润湿性能，充分满足生物材料传感需求。

应用前景：推动分子传感技术发展

imec目前正在开发采用可扩展流体控制技术的模块化读出系统，旨在为相关应用的化学开发提供平台。预计在2026年IEEE国际固态电路会议上，将展示专门为纳米孔传感设计的专用集成电路读出芯片。

这项技术演示标志着EUV光刻技术首次成功应用于生命科学领域，为半导体技术与生物传感的深度融合开辟了新途径。

信息来源：imec官方新闻稿，2025年12月。

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