上海芯上微装25日发布消息称，芯上微装自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200）正式完成出厂调试与验收，标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破。此外，国内在模型端推动开源模型体系发展，叠加适配性认证，强化国产芯片对主流模型的可用性；硬件端推动多家公司并进，华为、寒武纪及互联网巨头共同推进国产算力能力提升，并在地方政策支持下建设混合芯片集群。模型开放化与硬件多元化协同推进，使国产AI逐步健全全栈能力并具备可出口能力。（消息来源：财联社。以上仅供参考，不构成投资建议。）
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