北京大学彭海琳团队利用冷冻电子断层扫描（cryo-ET）技术，首次在液相环境中解析光刻胶分子三维结构，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。成果发表于《自然通讯》，标志国产光刻胶在原位解析与工艺优化方向迈出实质性步伐。中美经贸气氛缓和，为市场情绪注入“稳预期”信号；国产光刻胶突破构成“自主可控”链条的现实催化。从情绪层面看，科技主线的逻辑正在从“AI软件爆发”向“硬件与材料升级”迁移。短期资金或在“英伟达大会预期+国产替代突破”双线共振下，继续活跃于半导体设计与设备材料环节。（消息来源：财联社。以上仅供参考，不构成投资建议。）
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