5月13日，普达特科技（00650）发布公告，控股69.2%的附属公司芯恺半导体设备（徐州）有限责任公司已从一客户处获得两台半导体低压化学气相沉积（LPCVD）设备的样机订单。虽然该样机订单的收入尚未确认，但公司经过合理查询确认该客户及其最终实益拥有者为独立于公司及其关联人士的第三方。

　　这些LPCVD设备用于12寸半导体晶圆制造，涉及LP-SiN与ALD-SiN两类关键薄膜沉积工艺。设备已完成前期测试，将分别于2025年5月19日和2025年6月25日交付客户的晶圆厂。相较于国产同类设备，该设备在技术上可实现更高的填充深宽比、均匀性、台阶覆盖率与更低的污染，且拥有更高的批次生产效率。与海外供应商的同类设备相比，该设备在技术性能上达到同等水平，同时具备更优的性价比，为客户提供更具竞争力的解决方案。