炒作的原因：

10月15日至17日，第二届湾区半导体产业生态博览会（湾芯展2025）将在深圳会展中心盛大启幕。本届展会以“芯启未来，智创生态”为主题，芯片设备新秀新凯来将发布重磅新品

以 “芯启未来，智创生态” 为主题的2025湾区半导体芯片展（湾芯展），将于10月15日至17日在深圳福田会展中心举办。深圳市相关官员公开确认，本土半导体企业新凯来将参展，并会“给大家带来惊喜”。

相关链梳理：

供货：

新莱应材：公司为新凯来提供RTP(快速热处理)和DPN(扩散预清洗)设备的关键零部件。

至纯科技：公司为新凯来湿法清洗设备核心供应商。

富创精密：公司为新凯来提供关键零部件。

路维光电：供货新凯来掩膜版产品。

强瑞技术：已向新凯来供应超精密结构件产品。

利和兴：供货新凯来精密结构件和测试平台等产品。

技术：

至纯科技：公司与新凯来联合申请SAQP的技术专利，提供湿法清洗设备支持SAQP的工艺中的光刻胶清洗环节，适配7nm/5nm先进制程芯片生产。

奥普光电：通过合资公司长光集智供应SAQP光刻机核心部件(如光系统、CaFz光学晶体)。

冠石科技：SAQP的技术需四重曝光，对掩膜版需求增加；公司预计2025年实现45nm掩膜版量产，2028年突破28nm制程。

精测电子：SAQP的技术对薄膜沉积与刻蚀工艺精度要求极高，公司N+2制程设备采购成本达160亿元/万片产能。

国林科技：SAQP的工艺涉及大量光刻胶清洗，公司半导体级清洗设备适配光刻胶残留去除需求，技术夏盖28nm以下制程。

菲利华：光掩膜版核心材料供应商，石英玻璃基板c度达半导体级，已通过中芯g际验证。

强力新材：供应SAQP的工艺所需光刻胶材料(如PSPI)

材料：

光刻胶：

彤程新材：ArF技术水平排名第一，半导体光刻胶营收2亿元，国产ArF量产领先供应商。

南大光电：ArF技术水平排名第二，控股子公司宁波南大光电主营ArF光刻胶相关产品，营收3600万。

上海新阳：ArF技术水平排名第三，光刻胶产品营收400余万，ArF企业测试验证中。

晶瑞电材：半导体光刻胶收入规模较小，量产KrF光刻胶，ArF光刻胶已向客户送样。

容大感光：半导体光刻胶收入规模较小，g/i线光刻胶量产，ArF研发中。

华懋科技：9 款光刻胶正在客户端进行产品验证。

普利特：间接参股苏州锂硕科技，其涉及光刻胶研发。

鼎龙股份：浸没式ArF晶圆光刻胶及某款KrF晶圆光刻胶产品顺利通过客户验证。

华软科技：公司光刻胶基材小批量订单。

掩膜版：

龙图光罩：半导体掩膜版营收A股第一。

冠石科技：投资20亿建设光掩膜版项目。

洪田股份：子公司洪镭光学获得半导体掩膜版光刻机订单。

光刻机光源：

茂莱光学：精密光学器件已供货上海微电子。

福晶科技：BB0晶体市占率全球第一，为激光器上游材料。

永新光学：光刻机镜头可应用于PCB光刻设备。

波长光电：光刻机平行光源系统。

刻蚀设备：

北方华创：电感性等离子体刻蚀 ICP设备。

中微公司：电容性等离子体刻蚀 CCP设备。

神工股份：刻蚀耗材单晶硅材料。

沉积设备：

北方华创：物理气相沉积薄膜生长设备PVD。

拓荆科技：化学气相沉积薄膜生长设备CVD。

微导纳米：原子层沉积镀膜设备。

先锋精科：刻蚀与薄膜沉积设备领域关键工艺部件。

清洗设备：

富乐德：泛半导体清洗服务营收占比75.22%，21年营收4.28亿元，深耕精密洗净二十余载，少数具有国际竞争力的泛半导体设备精密洗净服务提供商。

蓝英装备：清洗设备。瑞士子公司UCM AG为荷兰光刻机制造商ASML提供精密清洗解决方案，UCM AG能够为尖端芯,片制造设备的光学系统等清洁度要求最高的应用领域等定制高端专业化的清洗设备及系统化解决方案。公司精密清洗业务的芯片行业企业客户包括光刻机制造企业的合资(参股)公司。

至纯科技：清洗设备，深耕半导体高纯系统+晶圆清洗两大赛道，半导体国产化替代重要参与者。湿法清洗设备已经切入中芯g际、华虹集团、华润、燕东、台湾力晶等一线用户。

国林科技：清洗设备。公司有望成为半导体清洗设备国产替代稀缺标的，公司用于半导体行业的高浓度臭氧发生器和高浓度臭氧水设备技术取得突破，满足半导体行业应用需求.。

盛美上海：大陆半导体专用设备制造五强企业。

湾芯展参展公司：

新莱应材，利和兴，京仪装备，芯源微，广立微，上海贝岭，北方华创，华海诚科，江丰电子，华特气体，中科飞测，雅克科技，至纯科技，华润微，国民技术，华天科技，珂玛科技。

注：本文仅为个人复盘笔记，内容不构成投资建议。如有错漏，敬请谅解。也欢迎补充讨论

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$新莱应材(SZ300260)$
$至纯科技(SH603690)$
$永鼎股份(SH600105)$
#深圳市发改委主任：新凯来将带来惊喜#