本报讯 1月28日，国内半导体设备核心零部件领军企业深圳市恒运昌真空技术股份有限公司（以下简称“恒运昌”，688785.SH）正式在上海证券交易所鸣锣上市，成为2026年第一家科创板上市企业，中国半导体产业链又添一员。
打破海外垄断
稳居国产射频电源第一梯队
恒运昌的核心产品等离子体射频电源系统被誉为控制等离子体的“纳米手术刀”，直接决定芯片刻蚀与薄膜沉积工艺的精度与良率，是半导体设备中最核心、技术壁垒最高的零部件之一。长期以来，这一领域被美国MKS与AE两大巨头垄断，2024年国产化率不足12%。
面对这一技术关卡，恒运昌坚持自主创新，历经十余年持续投入，成功构建了涵盖信号采样与处理、相位锁定、同步控制等在内的三大基石技术体系，并衍生出八大产品化支撑技术，形成完全自主可控的核心技术链。公司先后推出CSL、Bestda、Aspen三代产品系列，其中第二代Bestda系列已支持28纳米制程，第三代Aspen系列更可覆盖7-14纳米先进制程，达到国际先进水平，填补国内空白。
截至2025年6月30日，公司累计获得261项授权专利，其中发明专利108项，另有133项发明专利处于申请阶段，同时承担工业和信息化部、科技部三项国家级重大科研课题。
凭借技术突破与产品迭代，恒运昌迅速赢得市场认可。根据弗若斯特沙利文权威统计，2024年恒运昌在中国大陆半导体行业国产等离子体射频电源系统厂商中市场份额高居第一，成为国产替代的核心力量。公司已与拓荆科技、中微公司、北方华创、微导纳米、盛美上海等国内头部半导体设备商建立深度战略合作关系，产品广泛应用于刻蚀、PECVD（等离子体增强化学气相沉积法）、ALD（原子层沉积法）等关键制程，并最终进入中芯国际等晶圆厂产线。
在国产化浪潮推动下，恒运昌业绩实现快速增长。招股书显示，2022年至2024年，公司营收从1.58亿元跃升至5.41亿元，年均复合增长超80%；扣非后归母净利润从1961.17万元增长至1.29亿元，盈利能力持续增强。
募投项目精准布局
夯实产能、研发与服务三大支柱
本次科创板IPO，恒运昌的募集资金将全面用于提升公司在半导体核心零部件领域的综合竞争力，重点投向沈阳半导体射频电源系统产业化建设项目、半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目、研发与前沿技术创新中心项目、营销及技术支持中心建设项目以及补充流动资金五大方向，将系统性强化产能保障、技术领先与客户服务能力。
其中，沈阳半导体射频电源系统产业化建设项目拟建设现代化生产基地，大幅提升等离子体射频电源系统的量产能力。半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目和研发与前沿技术创新中心项目将进一步丰富和拓展低频大功率等离子体射频电源、PVD（物理气相沉积法）直流溅射电源、远程等离子体源等产品，加码公司研发产品储备，并探索在光伏、显示面板、精密光学等领域的应用延伸。
面向市场，恒运昌将在全国主要半导体产业集群，包括在长三角地区、珠三角地区、京津冀地区、中西部地区等关键区域设立技术支持中心，打造“产品+服务”一体化解决方案能力。
