一、光刻

锦华新材在光刻胶产业链中具有重要地位。其相关产品及在光刻胶领域的作用如下：

- 超高纯羟胺：其衍生产品羟胺水溶液可作为清洗剂应用于芯片制造的刻蚀后清洗环节，能去除光刻胶残留、刻蚀副产物、金属离子污染等杂质，确保光刻图案的精度和良率。

- 光刻胶用有机溶剂：可作为光刻胶树脂的载体，优化光刻胶的流动性和涂布均匀性，是光刻胶制造的关键辅助材料。

- 硅烷交联剂：在光刻胶领域可作为“附着力促进剂”，其分子一端可与光刻胶树脂结合，另一端可与硅片表面形成坚固的化学键，从而使光刻胶牢固地附着在硅片上，保证光刻工艺的成功。

- 羟胺盐：如硫酸羟胺、盐酸羟胺等，是合成光刻胶核心组分光致产酸剂的关键原料，在光刻胶的合成中起到重要作用。

二、稀土金属分离剂

锦华新材产品在稀土分离领域有重要应用。

锦华新材的主要产品羟胺盐，包括硫酸羟胺和盐酸羟胺等，是制造稀土萃取剂的关键原料。其羟胺盐产品纯度高达99.99%，全球市场份额接近50%，客户包括蓝晓科技、康普化学等业内知名的稀土萃取类企业。这些企业利用锦华新材的羟胺盐生产稀土萃取剂，进而用于稀土分离过程。

三、固态电池

锦华新材的硅烷交联剂可用于构建/改性固态电解质，作为交联剂构建聚合物网络，或作为表面改性剂，改善无机电解质颗粒的分散性与界面稳定性。其羟胺盐则可用于在锂金属电极表面原位构建具有保护功能的人工固体电解质界面（SEI）膜，提升电池的循环稳定性。

公司通过积极布局固态电池市场，其电子胶粘材料广泛应用于电池电芯、模组及pack等关键部位，主要功能包括密封、缓冲、绝缘、阻燃和隔热等。公司紧跟固态电池的产业化进展，提前研究适配的材料性能，为未来技术成熟后的大规模应用做好技术准备。