人民财讯10月27日电，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10月23日开始公示，截止时间为11月22日。作为我国首个EUV光刻胶标准，具有重要的现实意义。该标准的制定不仅能够填补国内在该领域的技术标准空白，更将通过建立统一的测试方法体系，为国内外EUV光刻胶的性能评价提供客观标尺。A股中，光刻胶相关概念股有20余只，截至10月26日，已有6家公司发布三季报数据，业绩全部向好。目前国产化率为0，EUV光刻胶是极紫外光刻的关键材料，工作波长为13.5nm，主要应用于7nm及以下制程的集成电路制造，是实现先进逻辑芯片、高端存储芯片等微小化、高性能芯片生产的不可或缺的材料。当前，随着全球半导体产业向先进制程加速演进，EUV光刻技术已成为7 nm及以下节点的唯一量产方案。但是，EUV光刻胶完全被国外先进半导体材料公司所垄断（JSR、东京应化等占据超过95%全球市场份额），国产化率为零，国内的研发也仍处于起步阶段，亟需突破材料自主化与标准化壁垒。佳先股份是光刻胶国产替代的主力军！！