在芯片制造中，清洗步骤占比高达30%以上，是仅次于光刻和刻蚀的核心工艺环节。JH-2清洗剂主要用于芯片制造中铝制程干法刻蚀后的清洗环节，尤其在先进制程芯片中不可或缺。

锦华新材的JH-2产品纯度达到了99.99%，完全满足14nm及以下先进制程的清洗要求.这一指标使得国产清洗剂首次达到了国际顶尖水平，打破了海外企业在高端芯片清洗剂领域的长期垄断。相比进口产品，JH-2的成本要低30%以上，这一价格优势在当前芯片制造成本持续攀升的背景下显得尤为珍贵。公司计划在2026年将产能扩至5000吨，2027年实现年产2万吨，成为国内唯一可实现规模化量产的企业。

公司目前产能500吨，计划在2026年将产能扩至5000吨，2027年实现年产2万吨，成为国内唯一可实现规模化量产的企业。