锦华新材生产的硅烷交联剂和羟胺盐是光刻胶制造的关键原料。国内唯一生产企业、实现国产替代。
锦华新材生产的硅烷交联剂和羟胺盐是光刻胶制造的关键原料。
2024年，锦华新材硅烷交联剂和羟胺盐的市占率分别达38.16%、42.37%。此外，公司2024年成功开发的羟胺水溶液产品可作为清洗剂应用于芯片制造的刻蚀后清洗环节，目前全球仅巴斯夫等少量外资厂商具有高纯度羟胺水溶液工业化生产能力，锦华新材是国内唯一能够生产该产品的企业。
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