新凯莱光刻机的制程水平，综合现有信息来看，其技术路径非常清晰：它并非直接制造特定
$锦华新材(SZ920015)$ 新凯莱光刻机的制程水平，综合现有信息来看，其技术路径非常清晰：它并非直接制造特定纳米尺寸的光刻机，而是通过先进的“多重图形化”技术，在现有设备基础上实现更高级别的等效制程。
简单说就是duv 光刻机，这个技术路线匹配半导体清洗剂正式被巴斯夫垄断的，所以新锦华不仅打破国外垄断，还刚刚好匹配新凯莱光刻机制程范围
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