近日，在2026年湾区半导体产业生态博览会上，北京屹唐半导体科技股份有限公司（以下简称“屹唐股份”）凭借在技术创新方面的积极探索与持续发展，获得“技术创新企业奖”，彰显了行业对公司技术研发与创新能力的认可。

　　据悉，此次展会上，屹唐股份等离子刻蚀设备和晶圆表面原子处理设备模型在展台特别展出。如RENA-E®系列等离子体刻蚀设备以独特的电感耦合等离子技术为核心，实现快速介质刻蚀，兼具高刻蚀速率与低器件等离子体损伤。其灵活控制离子能量的能力，有效提升了刻蚀效率并保护器件质量。同时，利用电感耦合特性，解决了传统电容耦合刻蚀中的副产物沉积问题，延长了腔室部件寿命，显著提升平均维护间隔时间，降低了运维成本。这些技术优势使RENA-E®成为极具竞争力的大规模量产电感耦合等离子体PAD（钝化层）刻蚀设备。

　　Nebulex®选择性刻蚀设备基于业界领先的远程等离子系统，在宽广的工艺范围上提供了独特的气体选择与离子辅助控制方式，在去除介电和导体薄膜材料方面表现出优异的选择性，针对特定结构提供优秀的均匀度控制。未来，屹唐股份表示，将继续立足半导体设备领域，以创新驱动发展，以专业服务客户，为半导体产业发展注入更多动力。