官方报告指出，该光源“能够产生中心波长为13.5纳米的极紫外光，满足光刻市场对极
官方报告指出，该光源“能够产生中心波长为13.5纳米的极紫外光，满足光刻市场对极紫外光源的迫切需求”。
在半导体行业中，光刻机是最复杂且最难制造的设备之一。而目前，只有极紫外光刻机能够生产小于7纳米的芯片。当前全球唯一能够制造EUV光刻机的公司是荷兰的ASML公司（阿斯麦）。
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