聚和材料：
尊敬的投资者，您好。空白掩模版是掩模版的核心关键原材料，主要通过在超高纯度石英基板上依次完成切磨抛、清洗、镀膜、光刻胶涂胶及产品测试等工序制成。因此，光刻胶属于空白掩膜版的核心原材料之一。掩模版又称光罩、光掩模等，是光刻工艺所用的图形母版，其制作核心是在空白掩膜基板上形成特定电路图形，再通过曝光将图形转印到晶圆上，功能类似传统照相机的 “底片”，因此每款新设计的芯片，都需匹配一整套掩模版模具。感谢您的关注！