公司在存储芯片领域的技术工艺不断升级，目前已实现先进工艺全覆盖，这些技术升级对产品竞争力提升有何作用？
恒烁股份：
尊敬的投资者您好，公司一方面通过持续优化先进的ETOX工艺制程，并重点攻坚50nm与55nm节点，成功实现了晶体管密度的提升与动态/静态功耗的双重优化，显著降低工作功耗，能效比（EnergyEfficiency）获得质的飞跃。不仅直接降低产品的运行成本，更是在功耗敏感型应用领域确立了关键优势；另一方面积极布局先进的NORD工艺制程NORFlash产品，在提供强大环境适应力（稳定可靠，宽温工作）的同时，其占用的晶圆面积相较于其他竞品优势显著，在成本降低的同时，极大地释放了客户在产品小型化与便携性设计上的潜力，感谢您对公司的关注！
尊敬的投资者您好，公司一方面通过持续优化先进的ETOX工艺制程，并重点攻坚50nm与55nm节点，成功实现了晶体管密度的提升与动态/静态功耗的双重优化，显著降低工作功耗，能效比（EnergyEfficiency）获得质的飞跃。不仅直接降低产品的运行成本，更是在功耗敏感型应用领域确立了关键优势；另一方面积极布局先进的NORD工艺制程NORFlash产品，在提供强大环境适应力（稳定可靠，宽温工作）的同时，其占用的晶圆面积相较于其他竞品优势显著，在成本降低的同时，极大地释放了客户在产品小型化与便携性设计上的潜力，感谢您对公司的关注！
（来自 上证e互动）
答复时间 2025-11-19 16:59:00
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