证券日报网讯 1月14日，盛美上海在互动平台回答投资者提问时表示，公司此前推出的前道涂胶显影UltraLithTMTrack设备是一款应用于300毫米前道集成电路制造工艺的设备，可提供均匀的下降气流、高速稳定的机械手以及强大的软件系统，从而满足客户的特定需求。该设备功能多样，能够降低产品缺陷率，提高产能，节约总体拥有成本（COO）。涂胶显影Track设备支持主流光刻机接口，支持包括i-line、KrF和ArF系统在内的各种光刻工艺，可确保满足工艺要求的同时，让晶圆在光刻设备中曝光前后的涂胶和显影步骤得到优化。盛美上海经过5年的潜心研发，2025年第三季度公司推出首款自主研发的高产出（300WPH）KrF工艺前道涂胶显影（Track）设备UltraLITHKrF，并已顺利交付中国头部逻辑晶圆厂客户，该产品具有高产能、先进温控技术以及实时工艺控制和监测功能，进一步拓展了光刻相关的应用领域，展现了公司在新产品品类中的持续扩展能力。