新华财经上海9月8日电据盛美上海（688082.SH）9月8日消息，盛美上海推出首款KrF工艺前道涂胶显影设备Ultra LithKrF，旨在支持半导体前端制造。该系统的问世标志着盛美上海光刻产品系列的重要扩充，具有高产能、先进温控技术以及实时工艺控制和监测功能。首台设备系统已于2025年9月交付中国头部逻辑晶圆厂客户。

　　据盛美上海介绍，其推出的KrF工艺涂胶显影Track设备Ultra LithKrF采用灵活工艺模块配置，配备12个旋涂腔和12个显影腔（12C12D），并搭载54块可精确控温的热板，支持低温、中温及高温工艺处理，具备优异的热均匀性。该设备产能超过300片晶圆／小时（WPH），并集成盛美上海专利申请中的背面颗粒去除模块（BPRV），有效降低交叉污染风险。