12月4日晚间公告，上海证券交易所依据相关规定对公司报送的科创板上市公司发行证券的募集说明书及相关申请文件进行了核对，认为申请文件齐备，符合法定形式，决定予以受理并依法进行审核。
据募集说明书，本次拟向特定对象发行股票不超过8434.92万股，募集资金总额不超过46.00亿元，扣除发行费用后将用于高端半导体设备产业化基地建设项目、前沿技术研发中心建设项目及补充流动资金。
拓荆科技表示，本次定增的目的主要体现在三个方面。首先，公司作为国内高端半导体设备的领军企业，已形成PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等薄膜设备产品系列，在薄膜均匀性、颗粒控制、快速成膜等关键指标上达到国际先进水平，已广泛应用于集成电路芯片制造产线。为把握AI等新兴领域驱动下的市场机遇，公司将通过本次募投项目扩大高端半导体设备产能规模，满足下游客户在先进制程产能扩张和工艺升级过程中对高端设备的迫切需求。
其次，半导体芯片技术在AI终端、高性能计算等新兴应用的拉动下快速向更先进制程迭代推进，这对芯片制造环节提出了更高的要求和挑战。面向国内半导体制造产业的实际需求和产线技术演进节奏，公司将通过本次募集资金投资项目战略布局薄膜沉积设备领域的前沿核心技术，前瞻性开发可适用于前沿技术领域的新产品、新工艺，持续拓展并提升工艺覆盖面与智能化水平，强化公司在薄膜沉积设备领域的产品先进性和竞争优势，为下游芯片制造厂提供更具竞争力的高端半导体设备解决方案。
最后，近年来，公司业务规模逐渐扩大，产品市场需求及订单保持良好增长态势，2022年-2024年营业收入复合增长率达到55.08%。在技术研发、原材料采购、薪酬支出、生产运营及市场拓展等日常经营方面均需要大量、持续的资金投入。因此，本次部分募集资金拟用于补充流动资金。
综上所述，公司本次募集资金主要投向科技创新领域的主营业务。通过扩大高端半导体设备产能，战略布局前沿技术，抓住行业高速发展机遇，提升创新能力，强化产品优势，以更好地满足客户在技术节点更新迭代的过程中对先进薄膜性能指标的迫切需求。
