本报讯 （记者张文湘见习记者占健宇）2月27日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）披露2025年业绩快报。2025年，公司实现营业收入123.85亿元，同比增长36.62%；归属于母公司所有者的净利润为21.11亿元，较上年同期增加30.69%。
公告显示，根据市场需求，公司加大研发力度，新产品数量快速增加。2025年全年公司研发投入37.44亿元，较2024年增长12.91亿元，同比增长52.65%，研发投入占公司营业收入比例为30.23%。
对于业绩变动的原因，中微公司在公告中提到，公司主营产品等离子体刻蚀设备作为半导体前道核心设备之一，市场空间广阔，技术壁垒较高。公司的等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产。
同时，该公司在新产品开发方面取得了显著成效，近两年新开发出十多种导体和介质薄膜设备，目前已有多款新型设备产品进入市场，其中部分设备已获得重复性订单，LPCVD设备累计出货量突破三百个反应台，其他多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进；公司EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段。
公告显示，中微公司持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位，积极布局用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用的市场，并在Micro-LED和其他显示领域的专用MOCVD设备开发上取得了良好进展，几款MOCVD新产品进入客户端验证阶段。公司新型八寸碳化硅外延设备、新型红黄光LED应用设备已付运至国内领先客户开展验证，目前进展顺利。
此外，中微公司在南昌约14万平方米的生产和研发基地、上海临港约18万平方米的生产和研发基地已经投入使用，保障了公司销售快速增长。公司持续开发关键零部件供应商，推动供应链稳定、安全，设备交付率保持在较高水准，设备的及时交付也为公司销售增长提供了有力支撑。
