2月27日晚间，中微公司发布2025年度业绩快报。

　　据披露，公司2025年营业收入约123.85亿元，较2024年增加约33.19亿元，同比增长约36.62%。其中，2025年刻蚀设备销售约98.32亿元，同比增长约35.12%；LPCVD和ALD设备销售约5.06亿元，同比增长约224.23%；2025年归属于母公司所有者的净利润约21.11亿元，较上年同期增加30.69%。

　　研发方面，2025年公司研发投入约37.44亿元，较2024年增长12.91亿元（增长约52.65%），研发投入占公司营业收入比例约为30.23%。

　　对于影响业绩的主要因素，中微公司具体归结了如下几点：公司主营产品等离子体刻蚀设备作为半导体前道核心设备之一，市场空间广阔，技术壁垒较高。公司的等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产。

　　其中CCP方面，公司用于关键刻蚀工艺的单反应台介质刻蚀产品保持高速增长，能够全面覆盖存储器刻蚀应用中各类超高深宽比需求；ICP方面，适用于下一代逻辑和存储客户用ICP刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发取得了良好进展，加工的精度和重复性已达到单原子水平。到2025年底，公司累计已有超过7800个反应台在国内外170余条客户芯片及LED生产线全面量产，其中刻蚀设备反应台全球累计出货超过6800台。

　　新产品开发方面，据介绍，公司近两年新开发出十多种导体和介质薄膜设备，目前已有多款新型设备产品进入市场，其中部分设备已获得重复性订单，LPCVD设备累计出货量突破三百个反应台，其他多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进；公司EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段。

　　同时，公司持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位，积极布局用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用的市场，并在Micro-LED和其他显示领域的专用MOCVD设备开发上取得了良好进展，几款MOCVD新产品进入客户端验证阶段。公司新型八寸碳化硅外延设备、新型红黄光LED应用的设备已付运至国内领先客户开展验证，目前进展顺利。

　　产能建设方面，据公告，公司在南昌约14万平方米的生产和研发基地、上海临港约18万平方米的生产和研发基地已经投入使用，保障了公司销售快速增长。公司持续开发关键零部件供应商，推动供应链稳定、安全，设备交付率保持在较高水准。