1月23日，中微公司披露2025年业绩预告。经财务部门初步测算，公司预计2025年营业收入约123.85亿元，较2024年增加约33.19亿元，同比增长约36.62%。2025年归母净利润为20.8亿元至21.8亿元，与上年同期相比将增加4.64亿元至5.64亿元，同比增长约28.74%至34.93%。
中微公司表示，根据市场需求，公司加大研发力度，新产品数量快速增加。2025年全年公司研发投入约37.36亿元，较2024年增长 12.83 亿元（增长约 52.32%），研发投入占公司营业收入比例约为30.16%。这也意味着中微公司的研发增长快于营收和净利润增长。
具体业务板块：2025年刻蚀设备销售约 98.32亿元，同比增长约35.12%； LPCVD和ALD等半导体薄膜设备收入5.06亿元，同比增长约 224.23%。
中微公司表示，公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件的超高深宽比刻蚀工艺实现了稳定可靠的大规模量产。其中CCP方面，公司用于关键刻蚀工艺的单反应台介质刻蚀产品保持高速增长，能够全面覆盖存储器刻蚀应用中各类超高深宽比需求； ICP方面， 适用于下一代逻辑和存储客户用ICP刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发取得了良好进展，加工的精度和重复性已达到单原子水平。到2025年底，刻蚀设备反应台全球累计出货超过6800台。公司的CDP产品部门先进存储器件和逻辑器件开发的LPCVD, ALD等十多款导体和介质薄膜设备已经顺利进入市场， 并且设备性能完全达到国际领先水平。
对于营收高增，中微公司表示，公司主营产品等离子体刻蚀设备作为半导体前道核心设备之一，市场空间广阔，技术壁垒较高。公司的等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升， 先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产。
此外，中微公司在南昌约14万平方米的生产和研发基地、上海临港的约18万平方米的生产和研发基地已经投入使用，保障了公司销售快速增长。
据大智慧VIP，截至1月23日收盘，中微公司涨3.99%，报收367.55元。
