1月23日晚间，中微公司发布2025年年度业绩预告。

　　经财务部门初步测算，公司预计2025年营业收入约123.85亿元，同比增长约36.62%。其中，2025年刻蚀设备销售约98.32亿元，同比增长约35.12%；LPCVD和ALD等半导体薄膜设备收入5.06亿元，同比增长约224.23%；预计同期归母净利润为20.80亿元至21.80亿元，同比增长约28.74%至34.93%；预计同期归母扣非净利润为15亿元至16亿元，同比增加约8.06%至15.26%。

　　对于业绩增长原因，中微公司认为，公司主营产品等离子体刻蚀设备作为半导体前道核心设备之一，市场空间广阔，技术壁垒较高。公司的等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产。

　　新产品开发方面的显著成效亦促进了业绩增长。据介绍，公司近两年新开发出十多种导体和介质薄膜设备，目前已有多款新型设备产品进入市场，其中部分设备已获得重复性订单，LPCVD设备累计出货量突破三百个反应台，其他多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进；公司EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段。

　　同时，公司持续保持国际氮化镓基MOCVD设备市场领先地位，积极布局用于碳化硅和氮化镓基功率器件应用的市场，并在Micro-LED和其他显示领域的专用MOCVD设备开发上取得了良好进展，几款MOCVD新产品进入客户端验证阶段。“公司新型八寸碳化硅外延设备、新型红黄光LED应用的设备已付运至国内领先客户开展验证，目前进展顺利。”中微公司阐述。

　　产能方面，公告显示，公司在南昌约14万平方米的生产和研发基地、上海临港的约18万平方米的生产和研发基地已经投入使用，保障了公司销售快速增长。公司持续开发关键零部件供应商，推动供应链稳定、安全，设备交付率保持在较高水准，设备的及时交付也为公司销售增长提供有力支撑。公司特别重视核心技术的创新，始终强调创新和差异化并保持高强度的研发投入，同时公司运营管理水平持续提升，对产品成本及运营费用的控制能力有效增强。

　　据披露，由于市场对中微开发多种新设备的需求急剧增长，2025年公司显著加大研发力度，以尽快弥补国产半导体设备短板。2025年公司研发投入约37.36亿元，较上年增长12.83亿元（增长约52.32%），2025年研发投入占公司营业收入比例约为30.16%。2025年研发费用约24.72亿元，较上年增长约10.54亿元（增长约74.36%）。