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镇江二期项目:年产10万吨G5级超高纯湿电子化学品项目预计于2027年中投产,建成后将使江化微的高端半导体化学品产能翻倍,重点服务12英寸晶圆厂的28nm及以下先进制程需求。
江化微3.7万吨新增产能:2025年11月启动建设的“年产3.7万吨超高纯湿电子化学品项目”已完成环评批复,涵盖盐酸、硝酸、氨水、NMP等关键产品线,建设周期16个月,预计2027年初达产。
光刻胶配套试剂:持续深耕G5级显影液、剥离液、蚀刻液,已通过中芯国际、华虹半导体、长鑫存储等头部客户验证,EUV光刻胶配套试剂与High-K金属蚀刻液进入中试阶段,瞄准3nm以下先进制程需求。
先进封装材料:G3级二氧化硅蚀刻液、钛蚀刻液已批量应用于6英寸、8英寸先进封装凸块产线,客户覆盖华力微、芯联集成等。
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发表于 2026-01-07 22:55:18
发布于 海南



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