1.光刻机:上海电气，海立股份，张江高科，银合科技，奥普光电。

2.光刻胶:南大光电，彤程新材，晶瑞光电，容大感光，雅克科技，晶瑞电材。

3.光刻机光源:英诺激光，茂莱光学，福晶科技，永新光学，凯美特气，聚光科技。

4.光学部件:永新光学，波长光电，江丰电子，苏大维格，炬光科技，同飞股份，晶方科技。

5.多重曝光:冠石科技，至纯科技，精科电子，菲利华。

6.光刻机洁净设备:蓝英装备，美埃科技，国林科技，安达智能，至纯科技。

（仅供参考）

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