在半导体赛道里，光刻机是绕不开的“卡脖子”核心，其产业链更是藏着不少值得关注的细分机会。今天用最直白的话，把这条链拆成6块，关键企业一次列全，看完就能get重点！
1. 核心中的核心：光刻机整机
这是产业链的“心脏”，技术壁垒最高。
- 上海电气：背靠国企资源，在整机研发端有基础布局
- 张江高科：依托张江科学城，深度绑定光刻产业链生态
- 奥普光电：在精密光学部件领域有积累，为整机提供支撑
- 海立股份、银合科技：在配套设备与技术服务端发力
2. 缺一不可：光刻胶
没有光刻胶，光刻机就是“无米之炊”，是光刻环节的关键材料。
- 南大光电：国内ArF光刻胶突破的代表企业，技术领先
- 彤程新材、容大感光：覆盖多个光刻胶品类，客户资源稳定
- 晶瑞电材（原晶瑞光电）、雅克科技：在中低端光刻胶市场有较强竞争力
3. 光刻机的“眼睛”：光源系统
光源的稳定性直接影响光刻精度，是核心技术之一。
- 福晶科技：在激光晶体领域全球领先，是光源系统的关键供应商
- 英诺激光、茂莱光学：专注激光设备与光学元件，为光源提供核心部件
- 永新光学、聚光科技：在光学检测与激光应用端有扎实基础
4. 精度保障：光学部件
相当于光刻机的“毛细血管”，每一个部件都决定了最终精度。
- 江丰电子：在溅射靶材领域国内龙头，为光学部件提供原材料支撑
- 苏大维格：在微纳光学领域有优势，涉及光刻配套的光栅等产品
- 波长光电、炬光科技：专注光学透镜与激光器件，适配光刻需求
5. 突破精度的关键：多重曝光技术
当单台光刻机精度不够时，靠多重曝光“拼”出更高精度，配套设备需求激增。
- 至纯科技：在高纯工艺与曝光配套设备领域有核心技术
- 冠石科技：为多重曝光提供显示与光学配套材料
- 菲利华：石英材料龙头，是曝光环节关键部件的原材料供应商
6. 看不见的“保护伞”：洁净设备
光刻过程对环境要求极致苛刻，洁净设备是必配“防护盾”。
- 美埃科技：在空气净化领域领先，适配光刻车间高洁净需求
- 蓝英装备、国林科技：专注工业清洗与洁净系统，覆盖光刻配套场景
- 安达智能：在自动化洁净设备端有布局，提升洁净环节效率
