据《中国激光》杂志今年第6期（2025年3月下）所刊登的一篇研究论文称，中国研究人员已经建立了一个运行参数具有国际竞争力的EUV光源实验平台，这对于我国自主开展EUV光刻及其关键器件与技术的研发工作具有重要意义。香港《南华早报》4月29日对此报道时则认为，中方这一研究成果“突破了自主生产先进芯片的障碍”。

报道称，该研究团队来自中国科学院上海光学精密机械研究所，由该研究所研究员林楠领导，他曾是荷兰光刻机巨头阿斯麦公司（ASML）在光源技术方面的负责人。