英杰电气：
您好，据我们了解，光刻机核心技术难点集中于光学系统、精密机械与运动控制等方面，相比之下，电源并非光刻机研发最核心、最具挑战性的技术瓶颈。公司当前研发的半导体行业的相关电源，主要应用在半导体芯片的刻蚀、薄膜沉积、等离子注入、清洗、去胶这些工序环节以及半导体材料制造设备上，谢谢您的关注。