尊敬的董秘你好!近期我国光刻胶缺陷检测领域有了新突破。北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为,指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。请问我公司有没有相关专利和产品可以用于光刻胶缺陷检测?谢谢!
钢研纳克:
投资者您好,公司主要业务为金属材料检测、检测仪器研发与制造等。谢谢关注!
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(来自 深交所互动易)
答复时间 2025-10-28 15:50:12
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