根据贵司子公司武汉卓立汉光官网的文章https://www.zolix.com.cn/Applocation/desc/1141_6651.html 中介绍其拥有主动隔振平台技术能够提高晶圆厂EUV光刻精度，请问下贵司子公司的主动隔振光学平台是否已经在国内晶圆厂家实际使用，是否进入国产光刻机的技术供应链
必创科技：
您好！公司子公司的主动隔振光学平台可以降低环境振动影响，目前产品尚处于研发优化和市场推广阶段，后续公司会根据业务进展按信息披露要求及时对外公布。 感谢您的关注，谢谢！
您好！公司子公司的主动隔振光学平台可以降低环境振动影响，目前产品尚处于研发优化和市场推广阶段，后续公司会根据业务进展按信息披露要求及时对外公布。 感谢您的关注，谢谢！
（来自 深交所互动易）
答复时间 2025-12-24 15:00:13
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