像顺酐衍生物中的纳迪克酸酐，改性后可用于光刻胶单体。强力新材就基于该衍生物开发出
$濮阳惠成(SZ300481)$ 像顺酐衍生物中的纳迪克酸酐，改性后可用于光刻胶单体。强力新材就基于该衍生物开发出适配KrF、ArF光刻工艺的产品，纯度达99.99%以上，已进入中芯国际、华虹半导体等本土晶圆厂供应链。此外濮阳惠成也借助顺酐酸酐衍生物技术，开发出高纯度光刻胶中间体产品，切入光刻胶相关领域。这类衍生物能满足光刻胶在精细图形加工中的性能需求，适配高端芯片制造的严苛标准。
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