迦南科技子公司上海六迦与北京大学的技术合作！厉害了！！！！！！

上海六迦与北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队建立了深度合作关系，共同推进光刻胶技术的研发与产业化。2025年9月30日，彭海琳教授团队在《自然·通讯》（Nature Communications）杂志发表了题为"冷冻电镜断层成像重构液态薄膜中的聚合物以实现兼容晶圆厂的光刻工艺"（Cryo-electron tomography reconstructs polymer in liquid film for fab-compatible lithography）的研究成果。

该研究首次将冷冻电子断层扫描（cryo-electron tomography, cryo-ET）技术引入半导体领域，在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，分辨率优于5纳米 。研究发现，光刻胶聚合物倾向于吸附在气液界面而非分散在溶液体相中，且会形成平均尺寸约30纳米的团聚颗粒，这些团聚体是造成光刻缺陷的主要原因。

基于这一发现，研究团队开发出两项可显著减少光刻缺陷的产业化方案：一是适当提高曝光后烘烤（PEB）温度，抑制聚合物缠结；二是优化显影工艺，确保晶圆表面维持连续液膜，将聚合物捕获并带走。通过这两种策略的结合，12英寸晶圆表面的光刻胶残留物引起的图案缺陷数量降幅超过99%。

上海六迦作为产业化合作方，正在将这一突破性技术转化为实际生产应用。通过与北大团队的合作，公司在光刻胶设备的设计和制造中融入了最新的技术成果，开发出能够实现精准温控和液膜管理的新一代光刻胶处理设备。这种产学研结合的模式，不仅提升了公司的技术水平，也加快了科研成果的产业化进程。