波米科技的光刻胶良率提升有没有益处？
北大的科研团队首次解析了光刻胶的微观结构，发现了光刻胶的核心秘密，指导开发出可减少光刻缺陷的产业方案。
该消息说明北大团队解决了光刻胶良率问题，高良率光刻胶可以制造出高品质芯片，对光刻胶、光刻机、芯片等相关自主可控板块都是利好。
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