和科达单晶圆清洗机用于半导体晶圆制造中主要工艺前，后的清洗或蚀刻，可适用于栅极氧
和科达单晶圆清洗机用于半导体晶圆制造中主要工艺前，后的清洗或蚀刻，可适用于栅极氧化前清洗，光刻胶清除、多晶硅清除和蚀刻等环节。单晶圆清洗可有效防止药液污染。采用较短的喷淋时间就可以获得好的清洗效果，不会发生交叉污染， 降低化学品的消耗。
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