碳化硅成为芯片散热新路线 9月以来多只概念股获融资资金加仓
来源:人民财讯
碳化硅成为芯片散热新路线。日前,华为公布两项专利,均涉及碳化硅散热。无独有偶,此前有媒体爆料称,英伟达在其新一代Rubin处理器设计中,将CoWoS先进封装的中间基板材料从硅更换为碳化硅,以提升散热性能,并预计2027年开始大规模采用。
碳化硅应用领域从电力电子扩展到封装散热,打开了市场增量空间。东吴证券测算,以当前英伟达H100 3倍光罩的2500mm²中介层为例,假设12英寸碳化硅晶圆可生产21个3倍光罩尺寸的中介层,2024年出货的160万张H100若未来替换成碳化硅中介层,则对应76190张衬底需求。
A股市场方面,由于英伟达切入碳化硅散热领域,相关概念股9月以来大幅上涨,其中,露笑科技、天岳先进9月以来涨幅均超过30%,晶盛机电、天通股份涨幅均超过20%,天富能源、英唐智控涨幅均超10%。
据数据宝统计,9月以来,多只碳化硅概念股获融资资金加仓,通富微电、露笑科技、天岳先进、英唐智控、天通股份5股获加仓金额均超过3亿元。

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