凯美特气：技术突破与国产替代：近年来，我国在半导体领域不断加大研发投入，取得了一
凯美特气：技术突破与国产替代：近年来，我国在半导体领域不断加大研发投入，取得了一系列技术突破。在光刻技术方面，虽然与国际先进水平仍存在一定差距，但国内企业也在不断追赶。凯美特气在电子特气领域的技术积累和研发能力，使其具备了为国内光刻机企业提供配套光刻气的潜力，有望在国产替代进程中发挥重要作用。
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