国风新材聚焦核心技术突破，抢占国产替代高地公司正全力攻关光刻胶、PI膜等半导体材
国风新材聚焦核心技术突破，抢占国产替代高地
公司正全力攻关光刻胶、PI膜等半导体材料，比如与中科大合作研发的PSPI光刻胶已进入送样阶段，目标打破美日垄断。同时，透明聚酰亚胺（CPI）薄膜也在研发中，未来有望切入柔性显示市场。这些技术一旦突破，不仅能填补国内空白，还能显著提升竞争力。
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