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发表于 2025-07-24 20:35:58 股吧网页版 发布于 天津
光刻机大利好来袭,永赢半导体大涨超4%!

 半导体行情今日全面爆发,光刻机细分领域迎来重大技术突破。$永赢半导体产业智选混合发起C$ (015968)今日涨幅腾飞,大涨4.08%,领跑半导体芯片类基金!

永赢半导体产业智选混合C(015968)深度聚焦半导体产业核心环节,尤其是光刻机技术链。凭借主动管理的灵活优势,该基金精准布局光刻设备与材料企业。经历短期调整后迅速重启涨势,其近一周反弹达8.49%,近6月上涨18.88%,近1年涨幅高达82.52%,近2年累计收益40.6%,展现持续领跑能力。

光刻机行业正迎来技术分水岭。全球巨头近期密集发布创新设备:荷兰ASML在第二季度交付了全球首台High-NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200B,生产效率突破每小时220片晶圆,精度实现跨越式提升,为2纳米以下芯片制造奠定基础。与此同时,日本尼康正式推出革命性产品——无掩模后道光刻机DSP-100。该设备彻底摒弃传统光掩模,采用空间光调制器动态直写技术,将开发周期从数周压缩至小时级,大幅降低客户成本。

尼康DSP-100的突破性在于解决了先进封装的核心痛点。它支持600毫米超大基板加工,分辨率达1微米,并配备动态形变补偿系统,将翘曲误差压制在0.3微米内,完美匹配AI芯片、高性能计算芯片的多芯粒集成需求。其效率较传统方案提升30%以上,单位面积产能达300毫米晶圆的9倍,推动台积电、三星、英特尔等巨头加速布局面板级封装技术。而ASML持续巩固高端地位,其最新财报显示EUV光刻机贡献核心营收增量,11台EUV设备订单凸显人工智能与数据中心建设对先进制程的刚性需求。

技术迭代正重构半导体产业链价值。尼康通过DSP-100开辟后道工艺新战场,避开ASML的EUV垄断壁垒,形成差异化竞争。其无掩模技术解放了设计约束,使CPU与多颗高带宽内存的整合成为可能,推动单封装即服务器架构落地。ASML则持续加码High-NA EUV技术,巩固未来10年先进制程主导权。两者战略分野标志行业进入双线创新时代。

行业基本面同样释放积极信号。瑞银最新监测显示,全球半导体库存正稳步调整,MCU库存连续三月下降,全品类价格环比上涨1%,供需关系持续改善。尽管通信与工业芯片领域仍存波动,但高端光刻与封装环节的增长动能显著增强。

永赢半导体产业智选混合C(015968)紧密追踪光刻技术变革红利,其持仓高度聚

焦设备与材料龙头。当前光刻机赛道国产化需求迫切,技术跃进叠加产能扩张,产业链景气度持续攀升。值得锁定!

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