请问光刻机使用的超洁净真空腔体和公司目前提供给下游刻蚀和薄膜沉积设备所使用的腔体在材料和技术上有哪些不同？公司当下以及在研项目未来有没有能力服务于国内光刻机的研发包括但不限于腔体等核心部件？
先锋精科：
尊敬的投资者，您好！刻蚀和薄膜沉积设备腔体材料以铝合金为主，而光刻机腔体材料以钛合金为主；光刻机腔体的加工精度要求比刻蚀和薄膜沉积设备腔体更高；光刻机腔体需要做的表处主要是精密清洗，而刻蚀和薄膜沉积设备腔体表处主要是阳极氧化及精密清洗等，两者的清洗洁净度都需要达到纳米级要求。关于公司的在研项目，请您详见公司将于8月底披露的2025年半年度报告。感谢您的关注！
尊敬的投资者，您好！刻蚀和薄膜沉积设备腔体材料以铝合金为主，而光刻机腔体材料以钛合金为主；光刻机腔体的加工精度要求比刻蚀和薄膜沉积设备腔体更高；光刻机腔体需要做的表处主要是精密清洗，而刻蚀和薄膜沉积设备腔体表处主要是阳极氧化及精密清洗等，两者的清洗洁净度都需要达到纳米级要求。关于公司的在研项目，请您详见公司将于8月底披露的2025年半年度报告。感谢您的关注！
（来自 上证e互动）
答复时间 2025-07-22 09:14:00
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