A股半导体清洗设备龙头盛美上海(688082)日前接受机构调研。公司高管表示，公司的PECVD、Track及炉管设备等产品线均在持续推进研发创新，加强颠覆性技术创新，目前公司订单能见度已经看到第四季度，并即将排满，公司也将持续拓展海外市场。

　　盛美上海产品覆盖了前道半导体工艺设备，包括清洗设备、半导体电镀设备、立式炉管系列设备、涂胶显影Track设备、等离子体增强化学气相沉积PECVD（等离子体增强化学气相沉积）设备、无应力抛光设备；以及后道先进封装工艺设备、硅材料衬底制造工艺设备等。受益于全球半导体行业复苏，盛美上海2024年实现营业收入56.18亿元，归母净利润11.53亿元，同比增长26.65%，但盈利增速有所回落；今年一季度，公司实现归母净利润2.46亿元，同比增长约2倍。

　　本次调研中，公司高管介绍，公司LPCVD（低压力化学气相沉积）、氧化炉和ALD（原子层沉积）在内的炉管系列设备将在2025年实现显著放量；另外，电镀设备增长速度较快，今年基本维持50%的增长，预计明年将保持快速增长的态势。

　　据介绍，公司Track设备采用盛美差异化的平台设计，可以满足高产出量、低维护成本的需求。未来将持续通过供应链渠道优化保障零部件供应的稳定性，不断深化工艺创新，覆盖更广泛的市场需求；同时不断推进客户端的产品验证，提升市场认可度并进一步拓展客户资源。

　　在新品研发方面，公司最新研发的用于KrF工艺的300 WPH Track beta样机预计于2025年6月底进入客户端验证；公司自主研发的超临界CO干燥清洗设备目前已达到世界领先水平，CO用量与国外同行设备相比预计可节省50%，可大幅降低客户的消耗品成本。

　　在ALD设备方面，公司已经积累了一系列自主研发的具有全球知识产权保护的专利技术，未来能够在ALD设备均匀性、材质等方面持续作出更多贡献，以差异化创新工艺持续满足客户多样化需求。

　　不过，公司高管表示，当前Track设备目前最大的难点是关键零部件的采购，因为各设备厂商都有固定的零部件供应商，无法供货给第二家设备商。在零部件的国产化方面，虽然目前不能完全做到100%的国产化，但是公司相信随着技术的不断迭代及优化，未来将会实现零部件国产化率的持续提升。

　　目前盛美上海和控股股东分别在A股、美股两地上市。对于未来发展聚焦区域，公司高管表示，公司会发挥这一独特的双重资本市场优势，持续推进技术差异化、产品平台化、客户全球化的发展战略，持续提升产品竞争优势，并在服务好中国客户的同时，持续拓展海外市场。目前公司自主研发的差异化核心设备已经获得多家国际客户的关注与认可。

　　对于后续半导体设备领域收并购计划，公司高管指出，半导体产业发展进程中，设备企业领域的并购整合是行业演进的正常现象，具有自主知识产权差异化产品的标的是公司实施收并购的重要考量标准，后续若有相关事项的计划或进展，公司将按照相关规定履行信息披露义务。

　　盛美上海6月7日公告显示，公司2024年度向特定对象发行A股股票申请收到上交所审核意见通知，尚需获得证监会同意注册决定后实施。定增预案显示，公司计划募资44.82亿元（含本数），投入研发和工艺测试平台建设项目、高端半导体设备迭代研发项目以及补充流动资金。