在光刻技术方面，高纯二氧化碳有2大用途。一是用于沉浸式光刻技术，保证液体不从侧面泄露出去，进一步提高光刻分辨率。二是因其高纯度和化学惰性，成为光刻机冷却系统的理想选择。其纯度通常达到99.999%以上，能够有效降低光源温度，同时避免杂质对光源和光学系统的污染。请问公司的半导体级高纯二氧化碳设备在技术上是否能满足沉浸式光刻技术以及降低光刻机光源温度的需要？
国林科技：
尊敬的投资者，您好。光刻胶属于有机物的一种，臭氧主要作用之一就是去除有机物，公司半导体专用臭氧系统设备可以应用于光刻胶去除工艺。感谢您的关注。
尊敬的投资者，您好。光刻胶属于有机物的一种，臭氧主要作用之一就是去除有机物，公司半导体专用臭氧系统设备可以应用于光刻胶去除工艺。感谢您的关注。
（来自 深交所互动易）
答复时间 2025-08-18 11:45:11
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