公司您好,贵司的臭氧清洗设备能清洗光刻胶。但是不同制程的光刻胶所需要的清洗方式与清洗技术是不一样的。公司之前回复能满足清洗,但是对于公司的技术能力并没有一个很明确的说明。请问公司,目前最高级别的euv光刻胶,公司的设备能否满足其清洗要求?(就针对euv光刻胶而言)
国林科技:
尊敬的投资者,您好。光刻胶当下主要是SPM工艺,该工艺可以满足当下制程的要求,但是因为环保与经济型的考虑,一直以来国内外在开始研究用臭氧清洗替代,但目前处于工艺交替的初期,并没有完全成熟切换,根据工艺试验,臭氧水用于不同光刻胶的处理需要不同的浓度,一般需要满足85ppm以上的臭氧水浓度,目前国林半导体臭氧水发生器的浓度可以实现100ppm以上,最高到150ppm,因此可以满足使用。随着时间的推移以及工艺升级的需求,未来会是一种必然的趋势。感谢您的关注。
尊敬的投资者,您好。光刻胶当下主要是SPM工艺,该工艺可以满足当下制程的要求,但是因为环保与经济型的考虑,一直以来国内外在开始研究用臭氧清洗替代,但目前处于工艺交替的初期,并没有完全成熟切换,根据工艺试验,臭氧水用于不同光刻胶的处理需要不同的浓度,一般需要满足85ppm以上的臭氧水浓度,目前国林半导体臭氧水发生器的浓度可以实现100ppm以上,最高到150ppm,因此可以满足使用。随着时间的推移以及工艺升级的需求,未来会是一种必然的趋势。感谢您的关注。
(来自 深交所互动易)
答复时间 2025-08-11 20:45:10
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