请问公司的半导体臭氧设备产生的臭氧,是否在半导体制造中贯穿“清洗-沉积-刻蚀-保护”全流程?同时它是支撑先进制程(如5nm/3nm芯片、Mini-LED、化合物半导体)的核心技术要素吗?
国林科技:
尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程,目前被广泛应用于电子工业中,是支撑半导体制造工艺的重要技术要素之一。感谢您的关注。
尊敬的投资者,您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除、表面处理、氧化物生成等工艺制程,目前被广泛应用于电子工业中,是支撑半导体制造工艺的重要技术要素之一。感谢您的关注。
(来自 深交所互动易)
答复时间 2025-08-11 20:45:10
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