光刻胶产能扩张

ArF光刻胶：2025年，公司计划将ArF光刻胶产能从2024年的25吨/年提升至50吨/年，目标覆盖国内20%的ArF光刻胶需求2。二期扩产项目于2025年启动，旨在满足国内半导体制造对28nm以下制程光刻胶的需求。

其他光刻胶：公司还计划在宁波基地新增10吨/年钌前驱体产线，服务3nm以下逻辑芯片制造。

电子特气产能扩张

三氟化氮：内蒙古乌兰察布基地的三氟化氮产能将扩至1.5万吨，进一步巩固公司在该领域的市场地位。

高纯气体：公司计划提升高纯磷烷、砷烷等产品的产能，以满足第三代半导体材料的需求。