苏大维格：
您好，感谢您的关注！在光刻领域，公司现阶段主要拓展直写光刻、纳米压印光刻和投影扫描光刻技术和产品在光电子、光通信和泛半导体等领域的应用，并积极研发高制程掩膜的相关光刻技术。具体情况可查阅公司定期报告等相关公告，以公司公告内容为准。