贵公司去年的官微宣称:公司研发的智能纳米压印光刻系统FlexAligner，可实现在5纳米~50微米尺度范围内的微纳结构或图形的高保真复制，没有光学分辨率制约。NIL为微透镜阵列、光子芯片以及存储芯片等研发与制备，提供高效、高保真的复制手段。该设备卷对卷多重套刻、双面套准压印功能为国内外首创。请问贵公司纳米压印设备与佳能的纳米压印光刻机有何异同？
贵公司最近的技术有什么进步吗？
苏大维格：
您好，公司纳米压印光刻相关技术进展情况敬请关注公司定期报告等相关公告，以公司公告内容为准。谢谢！
您好，公司纳米压印光刻相关技术进展情况敬请关注公司定期报告等相关公告，以公司公告内容为准。谢谢！
（来自 深交所互动易）
答复时间 2025-06-25 11:45:11
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